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原子层沉积高性能纳米透明防腐薄膜制备技术
原子层沉积(ALD)高性能纳米透明防腐薄膜制备技术是中心自主开发(ZL201110030298.7)的一种通过原子层循环沉积生长纳米薄膜的技术,该技术在贵重金属的表面防腐上具有显著优势。
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光电位置传感器
基于硅基-氧化锌功能性薄膜结构的光电位置传感器是由中心自主开发(201510787568.7等)的产品。该产品具有分辨率高、响应速度快、信号输出简单及响应光谱范围宽等优点,在精确光学排列传感器、表面压型、旋转控制、角测量、距离传感器、指导系统及位置监测等领域具有重要的应用前景。
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高性能半导体气敏材料
高性能半导体气敏材料是由中心团队开发的具有自主知识产权(ZL201310264387.7等)的产品。金属氧化物气敏材料作为一种半导体气敏材料在环境检测等领域广泛使用,中心选用氧化锡、氧化锌、氧化钨等气敏材料,通过特定的晶体结构的调控以及掺杂技术,制备的高性能半导体气敏材料,对硫化氢、丙酮、一氧化碳等具有高灵敏度、高选择性。
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高精度气敏性能测试仪
高精度气敏性能测试仪是由中心自主开发(201610953103.9等)的产品,该产品由数据采集系统、控温系统、探针调节系统、真空系统和配气系统五大系统构成,配套测试软件可实现在线精准控制测试的功能。该气敏性能测试仪可用于对各种纳米材料、薄膜/厚膜材料、粉体/粒子材料、体块材料等进行气体传感器气敏性能分析测量。
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大尺寸原子层沉积设备
大尺寸原子层沉积系统是由中心自主研发(201610971593.5等)的产品,可满足12英寸(300 mm)硅片等批量加工需求以及大型零部件的纳米薄膜加工需求。系统拥有5个可加热液态源,可制备多种二元或三元复合纳米薄膜,衬底温度可加热至400℃,满足多种加工工艺需求,系统采用PLC全自动控制,可长期稳定可靠连续使用。
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高精度有害气体检测器
高精度有害气体检测器是由中心团队自主研发(201610953103.9等)的产品,主要针对有害性气体(一氧化碳、氮氧化合物等)在低浓度下的检测,尤其是在20 ppm以下的精确检测,能够对有害气体进行实时精确的监控和数据分析。
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